Characterization of transparent thin films (thickness, refractive index).

The equipment is installed in clean room environment and is accessible also to other research institutions.

use of the ellipsometer for an experienced user is €89,18 per hour.

Karakterizacija (debeline, lomni količnik) tankoplastnih transparentnih filmov

Oprema je nameščena v čistih prostorih in je pod ustreznimi pogoji dostopna tudi drugim raziskovalnim organizacijam

Cena uporabe merilnika za izkušenega uporabnika znaša 89,18 €/uro.

System for laboratory production of dionized water used in microelectronic processing. Complies with E2 standard.

System is permanently installed and connected to the closed supply loop of cleanroom facility. Deionized water as a product of the system is available to other institutions

use of the UPW for an experienced user is €87,42 per hour.

Sistem je namenjen pridobivanju izredno čiste deionizirane vode za potrebe mikroelektronskih procesov. Ustreza standardu E2.

Sistem je fiksno postavljen in vključen v distribucijsko zanko čistih prostorov. Produkt, DI voda je zato dostopen pod omejenimi pogoji zainteresiranim partnerjem.

Cena uporabe UPW za izkušenega uporabnika znaša 87,42 €/uro.

The equipment is used for chemical cleaning and rinsing of samples in the manufacturing processes of semiconductor elements, which require the use of clean surfaces, such as, for e.g., before the implementation of high-temperature, plasma and other technological processes. The device contains a rinser for quick removal of impurities (QDR) and a control unit with a water resistance meter, which enables automatic and controlled cleaning of samples. The rinser allows simultaneous cleaning of 25 100 mm silicon wafers in standard wafer carrier.

use of the UPW for an experienced user is €83,04 per hour.

Oprema se uporablja za kemijska čiščenja in spiranja vzorcev v postopkih izdelave polprevodniških elementov, ki zahtevajo uporabo čistih površin, kot je na primer pred izvajanjem visokotemperaturnih, plazemskih in ostalih tehnoloških procesov. Naprava vsebuje izplakovalnik za hitro odstranjevanje čistoč (ang. QDR) in kontrolno enoto z merilnikom upornosti vode, ki omogoča avtomatsko in kontrolirano čiščenje vzorcev. Izplakovalnik omogoča istočasno očistiti 25 silicijevih ploščic velikosti 100 mm v standardni nosilcih.

Cena uporabe UPW za izkušenega uporabnika znaša 83,04 €/uro.